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产品名:JSD系列磁控溅射镀膜机

简 介:

  JSD系列磁控溅射试验台适合于科研单位研制开发薄膜新工艺、新材料薄膜、合金材料薄膜、高低温环境下生长薄膜的实验镀膜产品。可实现直流磁控溅射、中频溅射、射频溅射、低温等离子体溅射。低温等离子体清洗和辅助镀膜。可镀制金属、导磁材料、陶瓷、介质材料。成膜方式可分时和共溅射。在线检测低温等离子体性能。

型号

JSD-500

JSD-800

JSD-多室

极限真空

2E-4Pa

恢复真空

3E-3Pa≤20min

真空系统配置

分子泵/低温泵,机械泵

工件夹具

球星、平面、行星夹具、定点高低温卡具多种形式

烘烤温度

真空室≤300℃   基片≤1000℃

溅射源

φ50/φ75mm 磁控平面靶 

溅射方式

直流、中频、射频

射频源

LIS-φ50/ ICP-80

离子探针/法拉利筒

选装

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